氮化铝热分析坩埚

氮化铝热分析坩埚

氮化铝坩埚用于生产有机发光显示器.

氮化铝 (氮化铝) 如果需要高导热性和电绝缘性能，是一种极好的材料; 使其成为热管理和电气应用的理想材料. 此外, AlN 是氧化铍的常见替代品 (铍) 在半导体行业中，因为加工时不会对健康造成危害.

氮化铝的热膨胀系数和电绝缘性能与硅片材料非常匹配, 使其成为高温和散热经常成为问题的电子应用的有用材料.

氮化铝是少数提供电绝缘和高导热性的材料之一. 这使得 AlN 在散热器和散热器应用中的高功率电子应用中非常有用.

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氮化铝可进行绿色加工, 饼干, 或全稠密态. 在绿色或饼干形式时，它可以相对容易地加工成复杂的几何形状. 然而, 材料完全致密化所需的烧结过程会导致氮化铝体收缩约 20%. 这种收缩意味着在加工 AlN 预烧结时不可能保持非常严格的公差.

为了实现非常严格的公差, 完全烧结的材料必须使用金刚石工具进行机械加工/研磨. 在此过程中，使用非常精确的金刚石涂层工具/轮来磨掉材料，直到形成所需的形状. 由于材料固有的韧性和硬度, 这可能是一个耗时且昂贵的过程.

AlN 通常用于基板中 1 毫米厚，可轻松激光切割. 它也可以是更厚的形式, 然而, 如果零件需要定制材料或大量机械加工，则小批量制造可能会很困难/成本高昂.

氮化铝 (氮化铝) 如果需要高导热性和电绝缘性能，是一种极好的材料. 因为它的素质, 它是用于热管理和电气应用的理想材料.

具有高导热性, 高耐磨性和耐腐蚀性, 氮化铝 (氮化铝) 是半导体和医疗行业最理想的材料.

氮化铝坩埚说明

异常高的导热性和良好的电绝缘特性

暴露于许多熔盐时具有出色的稳定性

热稳定性至少高达 1800°C

良好的机械特性延伸至高温范围

低热膨胀和抗热冲击

特殊的光学和声学特性.

氮化铝坩埚物性

抗弯强度是 300 ± 5MPa

热膨胀系数为5.6×10-6K-1 (20-1000°C)

导热系数是 100-200 Wm-1K-1

绝缘电阻为 >1012宽厘米 (20°C)

氮化铝坩埚应用

氮化铝坩埚加热器用于静电吸盘, 感受器, 夹环, 盖板和 MRI 设备.

产品:
· 用于大功率系统的氮化铝陶瓷散热器
· 金属熔炼用AlN坩埚
· 氮化铝陶瓷棒
· 氮化铝陶瓷加热器
· 陶瓷基板
· 自定义形状

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