电子封装用氮化铝陶瓷基板

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电子封装用氮化铝陶瓷基板

氮化铝 (ALN) 陶瓷具有高导热性(5-10 是氧化铝陶瓷的几倍), 低的

介电常数和损耗因数, 良好的绝缘性和优异的机械性能, 无毒,

高耐热性, 耐化学性 ,且线膨胀系数与Si相近,这是

广泛应用于通讯组件, 大功率led, 电力电子设备及其他

领域。可根据要求生产特殊规格产品.

产品性能


– 高导热性, 高抗弯强度, 高温


– 良好的电绝缘性


– 低介电常数和损耗


– 可以激光钻孔, 金属化, 电镀和钎焊

电子封装用氮化铝陶瓷基板

产品描述
具有电绝缘性和优良的导热性, Aluminum Nitride Ceramics is ideal for applications where heat dissipation is required. 此外, 因为它提供了热膨胀系数 (科特) 接近硅, 和出色的等离子抗性, 用于半导体加工设备部件.
好处:
· 高导热性与良好的电绝缘特性相结合.
· 暴露于许多熔盐时具有出色的稳定性.
· 高达至少 1500°C 的热稳定性
· 良好的机械特性延伸至高温范围.
· 低热膨胀和抗热冲击.
· 特殊的光学和声学特性.
物理性质
· 抗弯强度是 300 ± 5MPa
· 热膨胀系数为5.6×10-6K-1 (20-1000°C)
· 导热系数是 70-180 W/m.K
· 绝缘电阻为 >1012Ωcm (20°C)
· 低压注塑
· 冷等静压机
· 干压机
· 胶带铸造
· 精密机械加工
产品:
· 用于大功率系统的氮化铝陶瓷散热器
· 金属熔炼用AlN坩埚
· 氮化铝陶瓷棒
· 氮化铝陶瓷加热器
· 陶瓷基板
· 自定义形状

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