ホットプレス窒化アルミニウムヒーターカバープレート

ホットプレス窒化アルミニウムヒーターカバープレート

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ホットプレス窒化アルミニウムヒーターカバープレート

Hot-pressing Aluminum Nitride heater Cover Plate with thinnest thickness 0.75mm.

1.The material is very difficult to machine due to the high hardness and brittle, so it is very easily to have chips or scratches when handling or machining which lead to very high rejection rate.

2.Hot pressing aluminum nitride ceramics are sintered by vacuum hot pressing, the sintering process is more difficult than pressureless sintering. The aluminum nitride purity is up to 99.5%(without any sintering additives), and density after hot pressing reaches 3.3g/cm3, it also has excellent thermal conductivity and high electrical insulation. The thermal conductivity can be from 90 W /(m·k) に 210 W /(m·k).

3.The thinnest thickness only 0.75mm which is also difficult to machine.

The application of the Hot-pressing Aluminum Nitride heater Cover Plate
-Cover plate heater for semiconductor
Cover plates and MRI equipment(Magnetic Resonance Imaging)
-High-power detectors, plasma generators, military radios
-Electrostatic chucks and heating plates for semiconductors and integrated circuits
Infrared and microwave window material

Material Features

1.均一な微細構造


2.高い熱伝導率* (70-180 Wm-1K-1), 加工条件と添加剤で調整


3.高い電気抵抗率


4.シリコンに近い熱膨張係数


5.腐食および侵食に対する耐性


6.優れた耐熱衝撃性


7.H2およびCO2雰囲気で980°Cまで化学的に安定, そして1380°Cまでの空気中で (表面酸化

780°C付近で発生; 表面層は1380°Cまでバルクを保護します).

Typical Specification:

Purity:>99%
密度:>3.3 g / cm3
Compress Strength:>3,350MPa
曲げ強度:380MPa
熱伝導率:>90W /(m·K)
熱膨張係数:5.0 x 10-6/K
マックス. Temp:1,800°C
高電圧アルミナ金属化セラミック絶縁体:7×1012 Ω·アルミナセラミックネジ
絶縁耐力:15 kV/mm
窒化アルミニウム (AlN) 高い熱伝導率と電気絶縁特性が必要な場合に使用する優れた材料です; 熱管理および電気用途での使用に理想的な材料です。. さらに, AlN は酸化ベリリウムの一般的な代替品です (BeO) 機械加工しても健康被害がないため、半導体業界で使用されています。. 窒化アルミニウムは、シリコンウェーハ材料に非常に近い熱膨張係数と電気絶縁特性を備えています。, 高温と放熱がしばしば問題となるエレクトロニクス用途に有用な材料になります.
窒化アルミニウムは、電気絶縁性と高い熱伝導率を提供する数少ない材料の 1 つです。. これにより、AlN は、ヒートシンクおよびヒート スプレッダー アプリケーションの高出力電子アプリケーションで非常に有用になります。.

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