窒化アルミニウムセラミック基板ウェーハブロック

窒化アルミニウム (AlN) セラミックは熱伝導率が高い(5-10 アルミナセラミックの倍), 低い

誘電正接と誘電正接, 優れた絶縁性と優れた機械的特性, 無毒,

高い熱抵抗, 耐薬品性 ,線膨張係数はSiと同様です,これは

通信コンポーネントで広く使用されています, ハイパワーLED, パワーエレクトロニクスデバイスおよびその他

フィールド。特別仕様の製品は、ご要望に応じて製造できます。.

製品のパフォーマンス

– 高い熱伝導率, 高い曲げ強度, 高温
– 良好な電気絶縁
– 低誘電率と損失

– レーザー穴あけが可能, 金属化, メッキとろう付け

窒化アルミニウムは、電気絶縁性と高い熱伝導率を提供する数少ない材料の 1 つです。. これにより、AlN は、ヒートシンクおよびヒート スプレッダー アプリケーションの高出力電子アプリケーションで非常に有用になります。.