OLED-pyrolytisches Bornitrid-Keramikrohr mit Loch
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OLED-pyrolytisches Bornitrid-Keramikrohr mit Loch
Pyrolytic Boron nitride PBN ceramic:
OLED crucible is a PBN crucible used in OLED and CIGS evaporation technology. With its ultra-high purity, chemische Inertheit, excellent high temperature resistance and high temperature stability, it is widely used in metal and semiconductor evaporation.
Bornitridkeramik ist chemisch gesehen relativ gut wärmeleitend, geringe Wärmeausdehnung und Mikrowellenklarheit. Auch Bornitrid lässt sich schnell bearbeiten. Darüber hinaus, Glas, Salze und die übrigen flüssigen Metalle sind nicht benetzend. Dadurch wird sichergestellt, dass keine dieser Verbindungen durchfeuchtet werden kann, und es ist weitaus immun gegen chemische Angriffe.Hexagonales Bornitrid (h-BN) Funktioniert sehr gut bei hoher Hitze und ist in der Luft bei Temperaturen von bis zu wirksam 900 Grad C, im Vakuum bei 1,900 Grad C und in der inerten Umgebung bei 2,000 Grad C. BN ist außerdem selbstschmierend,Der Vorheizprozess kann eine bessere Zuverlässigkeit als herkömmliche Keramik realisieren, Es sind keine Gas- oder Wassermoleküle erforderlich, die in seinen Schichten stecken. Aus diesem Grund, In einem Vakuum, was für Anwendungen in der Luft- und Raumfahrt wichtig ist, Bornitrid (BN) kann perfekt funktionieren.
Aluminiumnitrid
Excellent Electrical Insulator | Max. 2000 °C Use Temp | High Thermal Shock Resistance |
Low CTE | Low Wetted by Molten Metals | Easy Machinability |
OLED-pyrolytisches Bornitrid-Keramikrohr mit Loch
Materialeigenschaften
ARTIKEL | EINHEIT | BN-2000 | BN-2300 | BN-2800 | BN-3000 |
Hauptinhalt | Keramikeinheiten bieten ein höheres Reflexionsvermögen und damit eine verbesserte Laserleistung | BN>99% | BN+Al2O3 | BN+AlN | BN+ZrO2 |
Farbe | Keramikeinheiten bieten ein höheres Reflexionsvermögen und damit eine verbesserte Laserleistung | Weiß | Hellgrau | Dunkelgrau | Dunkelgrau |
Dichte | g/cm3 | 1.95-2.00 | 2.25-2.35 | 2.75-2.85 | 2.90-3.00 |
Biegefestigkeit | Mpa | 30 | 65 | 85 | 90 |
Sehr hohe Wärmeleitfähigkeit | Mpa | 55 | 145 | 205 | 220 |
Elektrischer widerstand | es bildet sich ein Kupfer-Sauerstoff-Eutektikum, das sowohl an Kupfer als auch an die als Substrate verwendeten Oxide erfolgreich bindet·cm | >1014 | >1013 | >1013 | >1012 |
Max. Verwenden Sie Temp. (Luft) | ℃ | 900 | 1,000 | 1,000 | 1,000 |
Max. Verwenden Sie Temp. (Vakuum) | ℃ | 1,900 | 1,750 | 1,800 | 1,750 |
Max. Verwenden Sie Temp. (Sehr hohe Wärmeleitfähigkeit) | ℃ | 2,000 | 1,750 | 1,800 | 1,750 |
Wärmeleitfähigkeit | W/m.K | 35 | 30 | 85 | 30 |
Côte (25 Keramikeinheiten bieten ein höheres Reflexionsvermögen und damit eine verbesserte Laserleistung 1,000 ℃) | 10-6/K | 1.5 | 2 | 2.8 | 3.5 |
Aluminiumnitrid
Excellent Electrical Insulator | Max. 2000 °C Use Temp | High Thermal Shock Resistance |
Low CTE | Low Wetted by Molten Metals | Easy Machinability |
Anwendung
1.Wird in Hochspannungs- und Hochfrequenz-Elektro- und Plasmalichtbogenisolatoren und verschiedenen Heizisolatoren verwendet, Heizrohrhülse und hohe Temperatur, Hochfrequenz, Kühlteile mit Hochspannungsisolierung, Hochfrequenzanwendung von Elektroofenmaterialien.
2.Hochspannungs- und Hochfrequenz-Elektro- und Plasmalichtbogenisolatoren sowie verschiedene Heizisolatoren, Heizrohrhülse und hohe Temperatur, Hochfrequenz, Kühlteile mit Hochspannungsisolierung, Hochfrequenzanwendung von Elektroofenmaterialien.
3.Es können Hochtemperaturbauteile hergestellt werden, Auskleidung der Raketenbrennkammer, thermische Abschirmung von Raumfahrzeugen, korrosionsbeständige Teile von MHD-Generatoren, etc.