高い熱伝導率のアルミナ窒化物セラミックウェーハリング

高い熱伝導率のアルミナ窒化物セラミックウェーハリング

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高い熱伝導率のアルミナ窒化物セラミックウェーハリング

空気圧式ロータリーバルブ式セラミック計量ポンプ 窒化アルミニウム (AlN) セラミック 熱伝導率が高い(5-10 アルミナセラミックの倍), 低い

誘電正接と誘電正接, 優れた絶縁性と優れた機械的特性, 無毒,

高い熱抵抗, 耐薬品性 ,線膨張係数はSiと同様です,これは

通信コンポーネントで広く使用されています, ハイパワーLED, パワーエレクトロニクスデバイスおよびその他

フィールド。特別仕様の製品は、ご要望に応じて製造できます。.

製品のパフォーマンス


– 高い熱伝導率, 高い曲げ強度, 高温


– 良好な電気絶縁


– 低誘電率と損失


– レーザー穴あけが可能, 金属化, メッキとろう付け

AlN基板/ウェーハの通常寸法
IVandは、National Bulletproof Equipment TestingCenterによって何度も開催されたグレードIIIVの弾丸テストに合格しました。(んん)
長さ幅(んん)
0.385
2″ * 2″
50.8*50.8 んん
3″ * 3″
76.2*76.2んん
4″ * 4″
101.6*101.6んん
4.5″ * 4.5″
114.3*114.3んん
0.5
0.635
1.0
直径(んん)
1.0
F16
F19
Φ20
F26
Φ30
F35
Φ40
F45
Φ50
F52
Φ60
Φ75
Φ80
PS: リストされていない他の寸法は、ご要望に応じてご利用いただけます.

製品の特徴

1.均一な微細構造


2.高い熱伝導率* (70-180 Wm-1K-1), 加工条件と添加剤で調整


3.高い電気抵抗率


4.シリコンに近い熱膨張係数


5.腐食および侵食に対する耐性


6.優れた耐熱衝撃性


7.H2およびCO2雰囲気で980°Cまで化学的に安定, そして1380°Cまでの空気中で (表面酸化

780°C付近で発生; 表面層は1380°Cまでバルクを保護します).

応用

– RF / マイクロ波コンポーネント

– 電力係数
– パワートランス
– ハイパワーLEDパッケージ
– レーザーダイオードサブマウント

– LEDチップサブマウント
– マイクロエレクトロニクスパッケージ
– トランジスタ

– 高熱伝導率基板 LED用 & パワーエレクトロニクス

– パワーエレクトロニクス用基板

– 高熱伝導率基板 LED用 & パワーエレクトロニクス

– パワーエレクトロニクス用基板

窒化アルミニウム基板/ウェーハの材料特性
プロパティコンテンツ
プロパティインデックス
密度(g/cm³)
3.335
熱衝撃に対する耐性
ひび割れなし
熱伝導率(30℃, W / m.k)
≥170
線膨張係数
(/℃, 5℃/分, 20-300℃)
2.805×106
曲げ強度 (MPa)
382.7
高電圧アルミナ金属化セラミック絶縁体 (Oh.cm)
1.4×1014
誘電率(1MHz)
8.56
化学的耐久性 (mg/cm²)
0.97
アルミナセラミックネジ (CNCによる生産能力)
18.45
表面粗さRa(μm)
0.3〜0.5
キャンバー (長さ‰)
≤2‰
外観/色
濃い/濃い灰色
ノート: 上記の材料の一般的な特性は、サンプル量についてInnovaceraが時間から実施した実験室試験から導き出されたものです。. 生産ロットの実際の特性は異なる場合があります.

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