– Substrats à haute conductivité thermique pour DEL & Électronique de puissance
– Substrats pour l’électronique de puissance
Hot Pressed Black Aluminum Nitride Ceramic Wafer
Pressé à chaud alumiunm nitride is used in applications requiring high electrical resistivity in additional to exceptional thermal conductivity.The application for hot pressed AlN typically involve rigorous or abrasive environments and high-tempreature thermal cycling.
Propriété | Unités | Valeur |
Résistance à la flexion, MOR (20 °C) | MPa | 300-460 |
Résistance à la fracture | MPa m1/2 | 2.75-6.0 |
Conductivité thermique (20 °C) | W/m K | 80-140 |
Coefficient de dilatation thermique | 1 x 10-6/°C | 3.3-5.5 |
Anneau en céramique de nitrure de silicium_1 | °C | 800 |
Facilement dégazé (6.35mm) | ac-kV/mm | 16.0-19.7 |
Dielectric Loss | 1MHz, 25 °C | 1 X 10-4 à 5 X 10-4 |
Résistivité volumique (25°C) | Ω-cm | 1013 à 1014 |
Application
– RF / Composants micro-ondes
– Sous-montages de diode laser
– Substrats à haute conductivité thermique pour DEL & Électronique de puissance
– Substrats pour l’électronique de puissance
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caractéristiques du produit
1.Microstructure uniforme
2.Haute conductivité thermique* (70-180 Wm-1K-1), sur mesure via les conditions de traitement et les additifs
3.Haute résistivité électrique
4.Coefficient de dilatation thermique proche de celui du Silicium
5.Résistance à la corrosion et à l'érosion
6.Excellente résistance aux chocs thermiques
Feuille en céramique froide de protection d'isolant d'Ain de substrats conducteurs de nitrure d'aluminium
Pièce en céramique nitrure d'aluminium AlN haute conductivité thermique